ODM Fabréck China C17500 COBALT Néckel Byller Kupfer
Mir hu regelméisseg eise Geescht vun "Innovatiounspliichterzéngungen, ganz wichteg. D'Constaltungsvirstelle vu Clienten Eis Begbounweäte kultéiert net nëmmen am Chinesesche Secteur, awer ech kommt vum internationale Maart.
Mir maachen eis regelméisseg eise Geescht vun "Innovatioun fir d'Fortschrëtter, héichqualitativ Autorisatiounsquans, Öentkonsequent Marketen, Kredittzuelen unzezéien2.1285, China Cuconibe, Mat enger breeder Prioritéite, enger gudder Qualitéitsverbandszefriddenstelle stellen eis Produkter an d'Léisungen an Léisungen an eisen Feld an aner Schalt. Mir begréissen nei an al Clienten aus allen Iwwerleeung vum Liewen fir eis fir zukünfteg Relatiounen ze kontaktéieren an géigesäiteg Erfolleg ze kontaktéieren! Mir begréissen d'Clienten, kierperlech Associatiounen a Frënn vun allen Deeler vun der Welt ze kontaktéieren an Zesummenaarbecht mat géigesäiteg Virdeeler ze kontaktéieren an ze sichen an Zesummenaarbecht fir géigesäiteg Virdeeler ze kontaktéieren an ze sichen an Zesummenaarbecht
* D'Dispersioun gestäerkt Copper Legierung huet exzellent Resistenz zu héijen Temperaturerneignomen zousätzlech zu gudder elektresch Ad-temoriellen Temperaturhëllef an Héichpapper.
* Eis héich Stäerkt an Héichverhuelungshëllef Al2ox Dispersioun huet de Copper Dram gestäerkt, huelt d'Plaz vun der importéierter Equiviten wéinst héije Leeschtungsinstirung vun 150 kg
* Et gouf als jiegsu High-Tech Produkt bewäert (fir nei Materialklass) am Joer 2013
* Zwou Erfindunge Patente ginn ausgephentent ginn. D'Firma ass eleng verantwortlech fir Al2o -/3/pration gestäerkte Kultrasauffer gestäerkt ze sinn, dem Produkt vum Produkt.
1. Chemesch Zesummesetzung vun Al2o3 Dispersioun gesträngen Kupferblat
| Model | Cu + ag | Al2O3 | Ala | Ob | P | Fe | Pb |
| C15715 | ≥99.45 | 0,25-0.32 | ≤0.03 | ≤0.015 | ≤0,003 | ≤0.01 | ≤0.01 |
| C157225 | ≥999,25 | 0.43-0,51 | ≤0.03 | ≤0.015 | ≤0,003 | ≤0.01 | ≤0.01 |
| C15760 | ≥98.55 | 0,10-0,20 | ≤0.03 | ≤0.015 | ≤0,003 | ≤0.01 | ≤0.01 |
| aAl dat existéiert an enger Form anescht wéi al2O3 | |||||||
| bO dat existéiert an enger Form anescht wéi al2O3 | |||||||
2. Dimensional Deviation vun Al2o3 Dispersioun gesträngen Kupferblat
| Entersheemer | Erlaabt deviation | Décker | Entersheemer | ||||
| 50-100 | ± 0.03 | ≤100 | > 100-200 | > 200-300 | > 300-400 | > 400-600 | |
| > 100-200 | ± 0.04 | Erlaabbar Ofwäichung vun Déck | |||||
| > 200-300 | ± 0.05 | 10-20 | ± 0.30 | ± 0.35 | ± 0,40 | ± 0.45 | ± 0,50 |
| > 300-400 | ± 0.06 | > 20-30 | ± 0.35 | ± 0,40 | ± 0.45 | ± 0,50 | ± 0,55 |
3. Kierperlech a mechanesch Eegeschafte vun Al2o3 Dispersioun gesträngen Kupferblat
| Model | Staatsministreg | Tensile Stäerkt RM (MPA) | Spezifesch Plastik verlängeren Stäerkt RP0.2 (MPA) |
| Rockwell Hardness HRB | Volume Resistenz (Ω * mm2 / m) | Elektresch Kämpfung (IACS,%) | Elektresch Kämpfung (MS / M) |
| C15715 | H04 | ≥427 | ≥407 | ≥144 | ≥63 | ≤0.01874 | ≥92 | ≥53.4 |
| C157225 | H04 | ≥483 | ≥448 | ≥12 | ≥77 | ≤0.01937 | ≥89 | ≥51.6 |
| C15760 | H04 | ≥552 | ≥5117 | ≥10 | ≥83 | ≤0.02210 | ≥78 | ≥45,2,2 |
4. Uwendungsfelder vun Al2o3 Dispersioun gesträngen Kupferblat
Et gëtt haaptsächlech fir d'Schweizer Industrie-Senderwiedere benotztMir hu regelméisseg eise Geescht vun "Innovatiounspliichterzéngungen, ganz wichteg. D'Constaltungsvirstelle vu Clienten Eis Begbounweäte kultéiert net nëmmen am Chinesesche Secteur, awer ech kommt vum internationale Maart.
Odm FabréckChina Cuconibe, 2.1285, Mat enger breeder Prioritéite, enger gudder Qualitéitsverbandszefriddenstelle stellen eis Produkter an d'Léisungen an Léisungen an eisen Feld an aner Schalt. Mir begréissen nei an al Clienten aus allen Iwwerleeung vum Liewen fir eis fir zukünfteg Relatiounen ze kontaktéieren an géigesäiteg Erfolleg ze kontaktéieren! Mir begréissen d'Clienten, kierperlech Associatiounen a Frënn vun allen Deeler vun der Welt ze kontaktéieren an Zesummenaarbecht mat géigesäiteg Virdeeler ze kontaktéieren an ze sichen an Zesummenaarbecht fir géigesäiteg Virdeeler ze kontaktéieren an ze sichen an Zesummenaarbecht
