Al2o3 Dispersioun gestäerkt Copper Staang an Drot (C15715, C15725, c15760)
* D'Dispersioun gestäerkt Copper Legierung huet exzellent Resistenz zu héijen Temperaturerneignomen zousätzlech zu gudder elektresch Ad-temoriellen Temperaturhëllef an Héichpapper.
* Eis héich Stäerkt an Héichverhuelungshëllef Al2ox Dispersioun huet de Copper Dram gestäerkt, huelt d'Plaz vun der importéierter Equiviten wéinst héije Leeschtungsinstirung vun 150 kg
* Et gouf als jiegsu High-Tech Produkt bewäert (fir nei Materialklass) am Joer 2013
* Zwou Erfindunge Patente ginn ausgephentent ginn. D'Firma ass eleng verantwortlech fir Al2o -/3/pration gestäerkte Kultrasauffer gestäerkt ze sinn, dem Produkt vum Produkt.
1. Chemesch Zesummesetzung vun Al2o3 Dispersioun gesträngen Kupferung an Drot
| Model | Cu + ag | ADA | Ob |
| C15715 | ≥99.62 | 0,13-0.17 | 0,12-0.19 |
| C157225 | ≥99.43 | 0.23-0.27 | 0,20-028 |
| C15760 | ≥98.77 | 0.58-0,62 | 0,52-0,59 |
2. Kierperlech a mechanesch Eegeschafte vun Al2o3 Dispersioun gesträngen Kupferung an Drot
| Model | Staatsministreg | Tensile Stäerkt RM (MPA) | Spezifesch Plastik verlängeren Stäerkt RP0.2 (MPA) | Erlong afer Fraktur eng% | Rockwell Hardness HRB | Elektresch Verwaltungsimitéit (IAccs,%) |
| C15715 | H04 | ≥427 | ≥407 | ≥21 | ≥63 | ≥92 |
| C157225 | H04 | ≥483 | ≥448 | ≥177 | ≥77 | ≥89 |
| C15760 | H04 | ≥552 | ≥5117 | ≥15 | ≥83 | ≥78 |
3. Uwendung Felder vun Al2o3 Dispersioun gesträngen Copper Staang an Drot
Et gëtt haaptsächlech fir d'Resistenzweechnung vun engem Resistenz-Top-Top- erop, Akkstoppt, elektresch Inschléi, Effizinten, Effort, Gasmaisatiounen a Schëffer fabrizéieren, Schimmel, etc.
